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艾拓斯新材料科技（苏州）有限公司
主营：贵金属磁控溅射靶材,各类氧化物陶瓷靶材,磁控溅射合金靶材 - 13776271737
艾拓斯新材料科技（苏州）有限公司
主营：贵金属磁控溅射靶材,各类氧化物陶瓷靶材,磁控溅射合金靶材
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高纯度贵金属锇靶Os 磁控溅射镀膜锇靶 锇靶Osmium (Os)锇PVD镀膜材料
产品名称： | 锇靶，锇粒，锇粉，锇丝 |
牌号规格： | Os 1 |
用途 ： | 主要用于电阻、继电器、火花塞电、电触头、热电偶及印刷电路等 |
产 品 详 情
贵金属锇及其合金在石油化学工业上主要作催化剂。
在电子电器工业上，作电阻、继电器、火花塞电、电触头、热电偶及印刷电路等。
在玻璃工业上，金属锇不会使熔化的玻璃污染，可作为制造光学玻璃时的容器内衬。
锇铱合金可以作钟表和仪器中的轴承，制造笔尖和唱针。
传统上，锇用来制作钢笔尖，现在应用于生产磁控溅射镀膜靶材。
锇溅射靶材Osmium (Os)
形状 | 圆形、方形 |
尺寸 | Φ50~100mm |
厚度 | 3~15mm |
纯度 | ≥3N5 |
注：其它尺寸可根据客户要求制作。具体尺寸请联系销售。
锇靶材（Osmium, Os）
一、高纯贵金属磁控溅射镀膜锇靶材（Osmium, Os），作为PVD（物相沉积）镀膜技术中的关键材料，以其的物理特性和广泛的应用优势，在多个高科技领域中占据重要地位。
我司深耕靶材领域十年，专注研发与生产，铸就行业。所生产单材质靶材如下：
SINGLE ELEMENTS 单材质靶材、电子束蒸发颗粒 | |
Aluminum (Al) | Nickel (Ni) |
Antimony (Sb) | Niobium (Nb) |
Arsenic (As) | Osmium (Os) |
Barium (Ba) | Palladium (Pd) |
Beryllium (Be) | Platinum (Pt) |
Boron (B) | Rhenium (Re) |
Cadmium (Cd) | Rhodium (Rh) |
Carbon (C) | Rubidium (Rb) |
Chromium (Cr) | Ruthenium (Ru) |
Cobalt (Co) | Selenium (Se) |
Copper (Cu) | Silicon (Si) |
Gallium (Ga) | Silver (Ag) |
Germanium (Ge) | Tantalum (Ta) |
Gold (Au) | Tellurium (Te) |
Hafnium (Hf) | Tin (Sn) |
Indium (In) | Titanium (Ti) |
Iridium (Ir) | Tungsten (W) |
Iron (Fe) | Vanadium (V) |
Lead (Pb) | Yttrium (Y) |
Magnesium (Mg) | Zinc (Zn) |
Manganese (Mn) | Zirconium (Zr) |
Molybdenum (Mo) |
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二、材料特性：
，从材料特性来看，高纯锇靶材的纯度通常高达甚，这意味着其几乎不含有任何杂质，确保了镀膜过程的纯净性和终产品的优良性能。锇的密度高，达到22.59 g/cm³，这一特性使得锇靶材在溅射过程中能够稳定地释放原子，形成致密且均匀的薄膜。此外，锇的熔点也非常高，达到3045℃，这使得锇靶材能够在高温环境下保持稳定的物理和化学性质，为高温镀膜工艺提供了。
三、市场应用：
1、在PVD镀膜技术中，高纯锇靶材的应用优势尤为明显。，其高纯度特性确保了镀膜过程中杂质引入的减少，从而提高了薄膜的纯净度和性能稳定性。这对于需要和高性的电子器件和光学元件来说至关重要。其次，锇靶材的高密度和熔点使得其能够形成致密且耐高温的薄膜，这对于提高器件的耐热性、耐腐蚀性和机械强度具有重要意义。
2、在应用中，高纯锇靶材展现出了广泛的适用性。在电子电器工业中，锇靶材被用于制作电阻、继电器、火花塞电、电触头、热电偶及印刷电路等关键部件，其优异的导电性和稳定性确保了电子设备的正常运行。在石油化学工业中，锇及其合金作为催化剂，能够加速化学反应速率，提高生产效率。此外，在玻璃工业中，锇靶材还可作为制造光学玻璃时的容器内衬，防止熔化的玻璃被污染。
3、值得一提的是，随着科技的不断发展，高纯锇靶材在多新兴领域中也展现出了的应用潜力。例如，在航空航天领域，锇靶材可用于制作高温部件的防护涂层，提高部件的耐热性和耐腐蚀性；在医疗领域，锇靶材可用于制作生物兼容的涂层材料，为医疗植入物和工具提供保护。
综上所述，高纯贵金属磁控溅射镀膜锇靶材以其的物理特性和广泛的应用优势，在多个高科技领域中发挥着重要作用。随着技术的不断进步和应用领域的不断拓展，锇靶材的未来发展前景将加广阔。